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用于半导体的 Helios G4 UC DualBeam

结合可选的 Auto Slice View 4 (ASV4) 软件,Helios G4 UC 可实现高质量、全自动采集多模态 3D 数据集。这些数据集包括用于较大材料对比度的 BSE 成像、用于组成信息的能量色散光谱学 (EDS) 和用于微观结构和晶体学信息的电子背散射衍射 (EBSD)。结合 Avizo 可视化软件,可提供的工作流程解决方案,以实现纳米级的较高分辨率、的 3D 表征和分析。 体验 Helios G4 UC 的优点 使用 Tomahawk 离子镜筒可较快速、较容易地制备高质量、位点特异性 TEM 和 APT 样品 使用同类较佳 Elstar 电子镜筒获得纳米级信息的时间较短 凭借具有更高电流的下一代 UC+ 单色器技术,可以在低能量下实现亚纳米性能,从而显示较为细致的细节信息 可通过多达 6 个集成在镜筒内和透镜下的集成检测器获得具有清晰、精确且无电荷的对比度的较完整样品信息 使用可选的 Auto Slice View 4 (ASV4) 软件,可提供较高质量、多模态亚表面和 3D 信息,较精确地瞄准目标区域 对复杂结构进行快速、准确、精确的铣削和沉积,临界尺寸小于 10 nm 由于 150 mm Piezo 载物台和腔内 Nav-Cam 的高稳定性和准确性,可根据个体应用需求定制精确的样本导航 基于集成样品清洁管理和专用成像模式(如 SmartScan和 DCFI 模式)的无伪影成像特色文档 Helios G4 UC 数据表 Helios G4 UC 是行业的 Helios DualBeam 系列产品的一部分。它经过精心设计,以满足科学家和工程师的需求,将创新的 Elstar 电子镜筒与高电流 UC + 技术结合,以实现较高分辨率成像和较高的材料对比度,与的 Tomahawk 离子镜筒结合,用于较快、较容易、较精确的高质量样品制备。