光刻机作为半导体制造业中不可或缺的设备，其价格远非普通人可承担。据统计，一台高端光刻系统可能达到数十亿美元甚至更高。

这些高昂费用主要来源于光刻机的研发成本、精密部件和先进技术的应用，以及维护和更新所需的人力物力成本。每一次微小调整都需要精细计算，以确保最终产品在尺寸上保持极致精准。

光刻机使用的是超紫外（EUV）激光，能量强大且波长短，这使得它能够在纳米级别上进行制程，从而生产出性能卓越、高集成度芯片。这项技术要求严格控制环境因素，如温度、湿度等，以防止任何不稳定因素影响结果。

除了硬件成本之外，操作人员也需要接受专业培训才能熟练掌握这台设备。这些操作人员是公司重要的人才，他们对整个生产流程至关重要，而他们的薪酬也是一个额外负担。

在全球范围内，仅有几家公司拥有足够规模和资金来开发和运营如此昂贵的大型设备。此外，由于其特殊性，光刻机通常被视为国家战略资源，因此在国际贸易中面临着复杂的情报网络保护问题。